现在看到很多项目或者网上的信息中，UV光解氧化设备都是跟低温等离子设备一体的。所以在找UV光解设备的时候一般都会看到 UV光解等离子一体机。其实中技术的角度来说，UV光解氧化和等离子技术还是有些区别的。

要想对比两者技术间的区别，还是需要提一下，两者的技术原理。看看是怎么对废气进行治理的上次发文，介绍了低温等离子除臭技术的原理和过程，这次先来简单的说一下UV光解氧化技术的原理，然后在把低温等离子重新提一下UV 光氧技术是通过特定波长的UV激发光源产生不同能量的光量子，废气物质分子在大量携能光量子的轰击下解离；空气中的氧气和水分及外加的臭氧在该光量子的（分解）作用下可产生大量的新生态氢、活性（游离）氧和羟基氧等活动基团；因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进行产生臭氧，臭氧对紫外光束照射分解后的有机物具有极强的氧化作用；部分废气物质也能与活性集团反应，最终降解转化为低分子化合物，CO2和H2O等无害物质，无二次污染物的产生，从而达到净化废气的目的。

UV光解技术作为消除VOCs和恶臭目前比较流行的技术，特别在处理低浓度VOCs方面有很多的应用。在网络上可以看到许多环保产品宣传都用UV光解氧化这个名字。然而，从“UV光解”这个名字，让人的感觉是紫外光来解离有机物直接把VOCs破坏了。实际中应用中，都是采用简单的185和254nm的紫外灯管。根据前面介绍，我们很容易想到，只要有185nm的紫外线，就会有臭氧产生。臭氧具有非常强的氧化性，它能和所有有机物反应，破坏有机物分子，如果有足够的臭氧，最终可以将有机物氧化到二氧化碳和水。当然，紫外光也能够破坏有机物，但是这些有机物碎片能否与氧气反应不得而知。破坏有机物并不等于把有机物转换为无害的二氧化碳和水，如果仅仅把大分子打碎变成小分子，那么VOCs依然存在。这些有机物碎片估计不能与氧气反应，如果能与氧气反应，那么就不需要光催化技术了。因此，所谓UV光解（氧化）技术如果没有光催化剂的配合，其实就是臭氧氧化技术。

对于UV光解技术的脱臭，由于恶臭物质一般含有N和S的有机物，而有机物中的C-N键和C-S键的键能较低，很容易和臭氧也很容易被UV光解离，只要破坏了有机物中的C-N键和C-S键，那么臭味将大大降低或消失。这也许是我们经常听到的UV光解对恶臭效果较好的原因。

低温等离子体有机气体净化就是利用介子放电所产生的等离子体以极快的速度反复轰击废气中的异味气体分子，去激活、电离、裂解废气中的各种成分，通过氧化等一些列复杂的化学反应，打开污染物分子内部的化学键，使复杂的大分子污染物转变为一些小分子的安全物质（如二氧化碳和水），或使有毒有害物质转变为无毒无害或低毒低害的物质。

从上面可以看到，UV光氧技术和低温等离子技术，都是通过轰击废气物质，通过反复轰击分解，最终降解转化低分子化合物，转化为CO2和H2O等无害物质。
区别在于，UV光氧技术是通过光量子来实现对废气物质解离，而低温等离子技术是通过介子放电，电离、裂解废气中的各种成分的。当然，虽然两者技术在形态上是一样的工作流程，但是在处理有害物质的能力还是有所不同的

UV光解是光束裂解恶臭气中的细菌分子键，破坏细菌的核酸，在通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。

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